气溶胶辅助CVD法制备F掺杂SnO2薄膜及其性能

• 作者: 杨静凯 梁波 王轩 赵洪力 邸庆银
• 来源期刊: 硅酸盐学报
• 学科: 工学
• 关键词: 气溶胶辅助化学气相沉积法 氟掺杂二氧化锡薄膜 氟掺杂量 电学性能 光致发光
• 年，卷（期）: 2019,（2）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 243-249
• 页数: 7页
• 分类号: TB43
• 语种: 中文
• DOI: 10.14062/j.issn.0454-5648.2019.02.13

摘要

采用气溶胶辅助化学气相沉积法(AACVD)在玻璃衬底上沉积F掺杂SnO2(FTO)薄膜,研究了前驱液中不同F/Sn摩尔比制备的FTO薄膜的结构、表面形貌、光学、电学及光致发光性能.结果表明:所制备FTO薄膜均为(200)面择优取向的多晶四方金红石相结构;前驱液中F/Sn摩尔比的增加,会导致(110)面的衍射峰强度增加,薄膜表面堆积颗粒形状发生变化,薄膜样品光学透过率提升;当F/Sn摩尔比=40％时,FTO薄膜具有最大的载流子浓度1.031×1021 cm-3以及最小的电阻率3.42×10-4?·cm,这可归结为适量F的存在产生不同的缺陷影响.(200)面择优取向FTO薄膜光致发光谱可用于表征不同缺陷形式的跃迁.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	赵洪力	燕山大学材料科学与工程学院	31	150	6.0	10.0
5	梁波	燕山大学材料科学与工程学院	14	58	4.0	7.0
7	杨静凯		2	0	0.0	0.0
8	王轩	燕山大学材料科学与工程学院	1	0	0.0	0.0
11	邸庆银		1	0	0.0	0.0