基于深度特征与局部约束掩膜的相关滤波跟踪算法

• 作者: 吴小俊 王译萱
• 来源期刊: 数据采集与处理
• 学科: 工学
• 关键词: 相关滤波 特征提取 掩膜 背景干扰
• 年，卷（期）: 2019,（5）
• 页码范围: 808-818
• 页数: 11页
• 分类号: TP391.4
• 字数: 5406字
• 语种: 中文
• DOI: 10.16337/j.1004-9037.2019.05.005

摘要

为提升相关滤波算法在目标遮挡、快速运动以及背景杂乱等情况下跟踪结果的精确度和鲁棒性,提出了一种基于深度特征与局部约束掩膜(Local constrained mask,LCM)的相关滤波跟踪算法.在鉴别性相关滤波跟踪算法的基础上,利用学习得到的二值矩阵作为LCM对滤波器的能量分布进行裁剪,对模板边缘与测试图像之间产生的响应值进行抑制,实现扩大目标搜索区域的同时降低边界效应对跟踪结果的影响;将深度特征引入到特征提取过程中,通过对目标样本进行旋转、翻折和高斯模糊等处理,扩充训练样本数量,使模板学习到更为丰富的目标信息.与主流算法进行对比实验,验证了本文算法在处理目标遮挡、背景嘈杂以及光照变化等干扰时的鲁棒性.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	吴小俊	江南大学物联网工程学院	170	1079	17.0	22.0
2	王译萱	江南大学物联网工程学院	1	0	0.0	0.0