不同压强下制备镓-镁共掺杂氧化锌薄膜的性能研究

• 作者: 朱雅 钟志有
• 来源期刊: 中南民族大学学报（自然科学版）
• 学科: 工学
• 关键词: 磁控溅射 掺杂氧化锌 压强 内应力
• 年，卷（期）: 2019,（1）
• 所属期刊栏目: 物理与电子信息科学
• 页码范围: 107-111
• 页数: 5页
• 分类号: TN383
• 字数: 2783字
• 语种: 中文
• DOI: 10.12130/znmdzk.20190119

摘要

以镓-镁掺杂的氧化锌(ZnO)陶瓷靶作为溅射源,采用磁控溅射技术在玻璃基片上沉积镓-镁共掺杂ZnO(ZnO:Ga-Mg)薄膜样品.通过X射线衍射(XRD)和扫描电子显微镜(SEM)的测试表征,研究了压强对ZnO:Ga-Mg样品结构性质和薄膜内应力的影响.结果表明,所有薄膜样品均为六角纤锌矿晶体结构并具有(002)择优取向生长特性,压强对其结晶性能和内应力具有明显的影响.当压强为3.5 Pa时,ZnO:Ga-Mg薄膜样品具有最强的(002)衍射峰、最大的平均晶粒尺寸、最小的张应力和最好的晶体质量.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	钟志有	中南民族大学电子信息工程学院智能无线通信湖北省重点实验室	67	360	11.0	14.0
2	朱雅	中南民族大学电子信息工程学院智能无线通信湖北省重点实验室	7	2	1.0	1.0