小工具数控抛光对元件表面中频误差的匀滑研究

• 作者: 侯晶 王健 邓文辉 钟波 雷鹏立
• 来源期刊: 强激光与粒子束
• 学科: 工学
• 关键词: 数控抛光 去除函数 匀滑模型 材料参数 空间频率
• 年，卷（期）: 2019,（11）
• 所属期刊栏目: 高功率激光与光学
• 页码范围: 7-13
• 页数: 7页
• 分类号: TH74
• 字数: 4262字
• 语种: 中文
• DOI: 10.11884/HPLPB201931.190177

摘要

数控抛光已被广泛应用于光学元器件的加工制造,而抑制元件表面中频误差是加工过程中一项十分重要的内容.基于Presston方程对数控小工具抛光盘去除函数进行了建模,得到了理论化的去除函数表达式.结合去除函数,在参数化匀滑模型基础上通过建立多参数的时变理论模型,表明元件表面中频误差是随抛光过程呈指数型收敛的,其收敛效率取决于材料参数、体积去除率等抛光工艺参数.对理论模型的匀滑曲线进行了模拟分析,实现了不同工艺条件下的匀滑效率的对比.结果表明:在不同抛光盘材料的匀滑过程中,材料系数越大,其整体匀滑效率越高.同样,抛光盘体积去除率越大,对表面误差的匀滑效率也会越高.进行了一组空间周期分别为3,5,7 mm的波纹误差的匀滑实验,其结果表明,在相同的抛光参数下,具有较大空间频率的波纹匀滑效率会更高,收敛曲线下降得更快.最后对比了不同材料抛光盘匀滑效率,从实验上证实了沥青盘在波纹匀滑效率上远高于聚氨酯材料的抛光盘.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王健	中国工程物理研究院激光聚变研究中心	29	117	6.0	10.0
2	侯晶	中国工程物理研究院激光聚变研究中心	10	38	5.0	5.0
3	邓文辉	中国工程物理研究院激光聚变研究中心	6	8	2.0	2.0
4	钟波	中国工程物理研究院激光聚变研究中心	6	19	2.0	4.0
5	雷鹏立	中国工程物理研究院激光聚变研究中心	1	0	0.0	0.0