冶金级多晶硅的除硼专利技术综述

• 作者: 刘丹 张耀文 王智华
• 来源期刊: 中国科技信息
• 年，卷（期）: 2019,（5）
• 所属期刊栏目: 专利分析
• 页码范围: 17-18,21
• 页数: 3页
• 字数: 1731字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-8972.2019.05.002

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘丹		8	2	1.0	1.0
2	张耀文		2	0	0.0	0.0
3	王智华		2	0	0.0	0.0