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基于电铸微凸点形貌演变制作微透镜阵列研究
基于电铸微凸点形貌演变制作微透镜阵列研究
作者:
孙浩
王翔
谷化雨
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
镍电铸
微凸点阵列
数值模拟
面形演变
微透镜阵列
摘要:
微凸点阵列器件的制备及其一致性是微加工领域的难点问题.使用有限元方法对镍电铸过程中的流场分布、反应离子的物质输运以及电化学反应动力学进行耦合,结合网格变形几何技术,实现了不同电流密度和不同阵列节距微凸点电沉积过程形貌的动态仿真,结果表明:小电流密度有利于形成一致性良好的不同填充比的微凸点阵列.并针对电流密度为1 A/dm2,孔径30μm,深50μm,节距分别为150,180,210μm的微孔阵列进行了电铸实验,得到了不同电铸时间下微凸点阵列的沉积形貌,结果与数值模拟面形演变过程相吻合,同时,所得球面形阵列微凸点的底径误差在5μm以内,表现出很好的一致性.并以金属质球凸阵列为模板,结合翻模技术,提出了一种新的微透镜阵列制作方法.
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文献信息
篇名
基于电铸微凸点形貌演变制作微透镜阵列研究
来源期刊
传感器与微系统
学科
工学
关键词
镍电铸
微凸点阵列
数值模拟
面形演变
微透镜阵列
年,卷(期)
2019,(2)
所属期刊栏目
研究与探讨
研究方向
页码范围
5-8
页数
4页
分类号
TH16|TQ153
字数
3347字
语种
中文
DOI
10.13873/J.1000-9787(2019)02-0005-04
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
王翔
中国科学技术大学精密机械与精密仪器系
59
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2
孙浩
中国科学技术大学精密机械与精密仪器系
29
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谷化雨
中国科学技术大学精密机械与精密仪器系
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数值模拟
面形演变
微透镜阵列
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研究去脉
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相关学者/机构
期刊影响力
传感器与微系统
主办单位:
中国电子科技集团公司第四十九研究所
出版周期:
月刊
ISSN:
1000-9787
CN:
23-1537/TN
开本:
大16开
出版地:
哈尔滨市南岗区一曼街29号
邮发代号:
14-203
创刊时间:
1982
语种:
chi
出版文献量(篇)
9750
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43
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