等离子体作用后硅橡胶憎水性恢复及憎水迁移特性研究

• 作者: 吴照国 宋师男 王建国 童瑶 肖雄 谢思洋
• 来源期刊: 电工技术学报
• 学科: 工学
• 关键词: 硅橡胶 等离子体 憎水性恢复 憎水性迁移 扫描电子显微镜
• 年，卷（期）: 2019,（z1）
• 所属期刊栏目: 高电压与绝缘
• 页码范围: 433-439
• 页数: 7页
• 分类号: TM855
• 字数: 3633字
• 语种: 中文
• DOI: 10.19595/j.cnki.1000-6753.tces.L80700

摘要

为研究等离子体对复合绝缘子硅橡胶憎水性的影响,采用低温氩气等离子体分别对表面洁净硅橡胶和表面染污硅橡胶进行处理,测试样品憎水性恢复以及憎水性迁移过程中的静态接触角变化情况,同时用扫描电子显微镜(SEM)观测硅橡胶经等离子体处理后以及涂覆人工污秽时的表面形貌.实验结果表明,随着等离子体处理时间的增加,硅橡胶憎水性恢复速率逐渐增大,恢复稳定时的憎水角小于未处理样品.等离子体对硅橡胶的憎水性迁移有明显的促进作用,染污样品经等离子体处理后的憎水角迁移至稳定时的值比未处理样品大20°～40°.等离子体作用下硅橡胶表面产生孔洞和裂纹,而污秽层呈现出疏松多孔的特点,二者均有利于内部小分子迁移至表层,这是等离子体能促进硅橡胶憎水性迁移的主要原因.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王建国	武汉大学电气工程学院	99	1456	23.0	33.0
2	肖雄	武汉大学电气工程学院	8	14	2.0	3.0
3	吴照国	武汉大学电气工程学院	2	9	1.0	2.0
4	童瑶	武汉大学电气工程学院	3	1	1.0	1.0
5	谢思洋	武汉大学电气工程学院	1	0	0.0	0.0
6	宋师男	武汉大学电气工程学院	1	0	0.0	0.0