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液晶光学器件的近红外激光损伤研究进展
液晶光学器件的近红外激光损伤研究进展
作者:
刘晓凤
彭丽萍
李大伟
王玺
赵元安
邵建达
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
激光光学
激光损伤
液晶光学器件
导电膜
取向膜
液晶材料
摘要:
液晶光学器件在激光聚变、光电对抗、激光雷达、激光通信等领域的应用面临着近红外高功率激光辐照失效的风险.在介绍液晶光学器件基本结构和基本工作原理的基础上,按照液晶光学器件的组成,依次对构成液晶光学器件的导电膜、取向膜、液晶材料,以及整体液晶光学器件在近红外激光辐照下的损伤特性及机制的研究进展进行了综述.
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高精度微光学器件激光直写光刻系统研究
激光直写系统
光刻
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内容分析
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文献信息
篇名
液晶光学器件的近红外激光损伤研究进展
来源期刊
中国激光
学科
物理学
关键词
激光光学
激光损伤
液晶光学器件
导电膜
取向膜
液晶材料
年,卷(期)
2020,(1)
所属期刊栏目
综述
研究方向
页码范围
11-24
页数
14页
分类号
O436
字数
语种
中文
DOI
10.3788/CJL202047.0100002
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研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
中国激光
主办单位:
中国光学学会
中科院上海光机所
出版周期:
月刊
ISSN:
0258-7025
CN:
31-1339/TN
开本:
大16开
出版地:
上海市嘉定区清河路390号 上海800-211邮政信箱
邮发代号:
4-201
创刊时间:
1974
语种:
chi
出版文献量(篇)
9993
总下载数(次)
26
总被引数(次)
105193
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