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摘要:
随着大规模集成电路的发展,芯片面积逐渐增大引起器件内部腔体体积的增加,使水汽、氢气含量变得更难控制,由于腔内水汽和氢气的产生机理不同,单一控制方法难以达到理想的结果,针对此类问题,研究一种密封器件封装腔体内部气氛的控制方法,采用多重手段对各项影响要素进行逐一控制,根据水汽和氢气的来源对管壳盖板原材料进行高温预烘焙处理以清除氢气,在密封前对待封盖的组装半成品进行预烘焙以清除水汽,并在密封后、筛选试验后和长期放置后进行内部气氛检测.对比结果表明,采用新方法控制的密封器件内部的水汽、氢气的含量均控制在500ppm以下,与传统方法相比有大幅度的改善.
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文献信息
篇名 密封器件腔体内水汽和氢气含量的控制方法
来源期刊 微处理机 学科 工学
关键词 水汽 氢气 內部气氛 密封 IC器件
年,卷(期) 2020,(4) 所属期刊栏目 大规模集成电路设计、制造与应用
研究方向 页码范围 26-29
页数 4页 分类号 TN305.94
字数 1840字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1002-2279.2020.04.007
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 关亚男 中国电子科技集团公司第四十七研究所 5 1 1.0 1.0
2 赵鹤然 中国电子科技集团公司第四十七研究所 10 4 2.0 2.0
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研究主题发展历程
节点文献
水汽
氢气
內部气氛
密封
IC器件
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
微处理机
双月刊
1002-2279
21-1216/TP
大16开
沈阳市皇姑区陵园街20号
1979
chi
出版文献量(篇)
3415
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7
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