涂胶曝光显影一体化设备研究

• 作者: 吕磊 周文静 郑如意
• 来源期刊: 电子工业专用设备
• 学科: 工学
• 关键词: 光刻 涂胶 曝光 显影
• 年，卷（期）: 2020,（6）
• 所属期刊栏目: 半导体制造工艺与设备
• 页码范围: 31-36
• 页数: 6页
• 分类号: TN305
• 语种: 中文

摘要

以光刻工艺为核心,介绍了匀胶曝光显影一体化设备,对设备的特点进行了分析,同时对设备的运行流程、结构布局、工作效率和电控及软件的实现进行了介绍,并提出了该设备今后优化的方向.