掩模干法蚀刻参数的优化研究

• 作者: 刘维维 华卫群
• 来源期刊: 电子与封装
• 学科: 工学
• 关键词: 干法蚀刻 掩模 蚀刻参数 优化
• 年，卷（期）: 2020,（10）
• 所属期刊栏目: 微电子制造与可靠性
• 页码范围: 62-65
• 页数: 4页
• 分类号: TN305.7
• 语种: 中文
• DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2020.1013

摘要

文中主要介绍了等离子干法蚀刻工艺的原理和主要的蚀刻参数.采用正交实验的方式,对影响蚀刻速率、蚀刻均匀性以及选择比的蚀刻参数进行分析和优化,最终确定最佳工艺参数,使掩模条宽均匀性提高近3nm.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘维维		3	0	0.0	0.0
2	华卫群		1	0	0.0	0.0