深紫外光刻照明系统的微反射镜阵列公差分析

• 作者: 刘丽辉 刘克 尹超 李艳秋 闫旭
• 来源期刊: 光学学报
• 学科: 工学
• 关键词: 光学设计 公差分析 微反射镜阵列 深紫外光刻
• 年，卷（期）: 2020,（7）
• 所属期刊栏目: 光学设计与制造
• 页码范围: 144-150
• 页数: 7页
• 分类号: TN305.7
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/AOS202040.0722001

摘要

为满足45 nm及其以下节点光刻技术对照明系统的需求,将深紫外光刻照明系统的光束整形单元所采用的微反射镜阵列(MMA)作为关键器件,以实现满足光源-掩模联合优化(SMO)技术需求的任意照明光源.根据MMA结构参数和加工制造调整特性,分析MMA角度误差类型.在此基础上,利用蒙特卡罗公差分析法模拟实际加工制造调整的过程,通过分析微反射镜角度误差对曝光结果的影响,制定了满足曝光要求的角度公差.结果 显示,当MMA在正交方向上的角度调整公差和加工角度公差分别在(±0.04°,±0.06°)、(±0.04°,±0.04°)范围内时,系统曝光得到的特征尺寸误差(CDE)在98.1％的置信概率下小于0.33 nm.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李艳秋		57	202	7.0	13.0
2	刘克		15	6	1.0	2.0
3	刘丽辉		7	3	1.0	1.0
4	尹超		1	0	0.0	0.0
5	闫旭		1	0	0.0	0.0