基于衍射谱分析的全芯片光源掩模联合优化关键图形筛选

• 作者: 廖陆峰 李思坤 王向朝 张利斌 张双 高澎铮 韦亚一 施伟杰
• 来源期刊: 光学学报
• 关键词: 光学设计 光刻 分辨率增强技术 光源掩模联合优化 图形筛选
• 年，卷（期）: 2020,（21）
• 所属期刊栏目: 光学设计与制造|Optical Design and Fabrication
• 页码范围: 126-136
• 页数: 11页
• 分类号: TN305.7
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/AOS202040.2122001

摘要

提出了一种全芯片光源掩模联合优化的关键图形筛选方法,用图形的主要频率表征图形的特征,用主要频率的位置和轮廓信息描述主要频率在频域上的分布特征.设计了相应的主要频率提取方法、覆盖规则、聚类方法以及关键图形筛选方法,实现了全芯片光源掩模联合优化的关键图形筛选.采用荷兰ASML公司的商用计算光刻软件Tachyon进行了仿真验证,与ASML公司同类技术的对比结果表明,本方法获得的工艺窗口优于ASML Tachyon方法.