Ti-B-N涂层的制备、结构及性能研究

• 作者: 刘滨
• 来源期刊: 中国钨业
• 关键词: TiB2 Ti-B-N HiPIMS 力学性能 电阻率
• 年，卷（期）: 2021,（2）
• 所属期刊栏目: 冶金·材料|METALLURGY AND MATERIAL TECHNOLOGY
• 页码范围: 60-68
• 页数: 9页
• 分类号: TF124.8+5
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1009-0622.2021.02.010

摘要

通过改变N2气流量、沉积偏压等参数,采用高功率脉冲磁控溅射沉积技术制备Ti-B-N涂层,研究N掺杂含量对涂层相结构、力学性能及导电性能的影响及作用.结果表明:研究所制备出的Ti-B-N涂层相结构均由fcc-TiN、a-BN组成.N极易与B结合得到软质、脆性a-BN,导致涂层的力学性能较差,硬度下降至～17 GPa.随着N2气流量的增加,Ti-B-N涂层的电导性下降,这是因为增加N含量导致涂层晶粒得到细化,晶界含量增多,从而提升了电阻率.