残余应力对介质高反膜面型影响的研究

• 作者: 李阳 徐均琪 刘政 苏俊宏
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 关键词: 薄膜应力 大口径 ERT 面型
• 年，卷（期）: 2021,（5）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 488-494
• 页数: 7页
• 分类号: O484
• 语种: 中文
• DOI: 10.13922/j.cnki.cjvst.202009001

摘要

使用有限元分析方法对介质激光高反镜镀膜前后的元件面型变化及膜层应力分布进行研究,仿真结果表明:残余应力和热应力都呈层状分布,基底应力从下到镀膜面由拉应力变为压应力,应力引起面型变化呈环状分布.对于熔石英基底,当厚径比小于1∶20时,重力引起的变形不可忽略.当熔石英(φ=200 mm,d=2 mm)表面为由重力引起的曲面且膜系为G|(HL)10H | A的TiO2-SiO2组合时,镀膜元件面型变化减小1.45 μm,修正了理想平面镀膜仿真的不足,为大口径微变形镀膜元件的制备提供指导.