管式PECVD法沉积的SiyNx/SiOxNy叠层膜的研究

• 作者: 王贵梅 许志卫 靳迎松 朱少杰 王少丽
• 来源期刊: 太阳能
• 学科: 工学
• 关键词: 管式PECVD 氮氧化硅薄膜 氮化硅薄膜 SiyNx/SiOxNy叠层膜 太阳电池 短波响应 抗PID性能
• 年，卷（期）: 2022,（1）
• 所属期刊栏目: 技术应用|TECHNOLOGY APPLICATION
• 页码范围: 40-44
• 页数: 5页
• 分类号: TK514
• 语种: 中文
• DOI: 10.19911/j.1003-0417.tyn20201010.01

摘要

本文对采用管式等离子体增强化学气相沉积(PECVD)法沉积的氮化硅与氮氧化硅(SiyNx/SiOxNy)叠层膜进行了实验研究,结果表明:在硅片正面镀膜时增加SiOxNy膜层,既可以增强正面的钝化效果,还可以降低对光的反射率,增加光吸收率,从而提升太阳电池的短波响应能力,通过对膜层组分和反应气体流量等工艺参数进行匹配优化,使太阳电池的光电转换效率提升了0.07％;利用SiyNx/SiOxNy叠层膜抗氧化、抗钠离子的特性,使太阳电池的抗电势诱导衰减(PID)性能提升了22％.