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上海微电子技术和应用期刊
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上海微电子技术和应用1994年出版文献
出版文献量(篇)
435
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上海微电子技术和应用
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曾用名:
上海半导体
ISSN:
1006-9453
CN:
31-1239/TN
出版周期:
季刊
邮编:
200040
地址:
上海市胶州路397号 上海半导体器件研究
出版文献量(篇)
435
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目录
1.
GaAs低能Si^+及SiF^+离子注入研究
作者:
关安民 李钧
刊名:
上海微电子技术和应用
发表期刊:
1994年1期
页码: 
1-3
摘要:
2.
铁电集成与铁电薄膜的脉冲激光沉积(一)
作者:
林成鲁 郑立荣
刊名:
上海微电子技术和应用
发表期刊:
1994年1期
页码: 
4-14
摘要:
3.
MOCVD法在InP上生长GaAs及其在器件中的应用
作者:
任永一 章其麟
刊名:
上海微电子技术和应用
发表期刊:
1994年1期
页码: 
15-18
摘要:
4.
SDB及其减薄技术的研究
作者:
张佐兰
刊名:
上海微电子技术和应用
发表期刊:
1994年1期
页码: 
19-24
摘要:
5.
600门GaAs门阵列的设计
作者:
杜根娣 苑恒
刊名:
上海微电子技术和应用
发表期刊:
1994年1期
页码: 
25-26
摘要:
6.
钝化膜热诱发应力的产生及其消除法
作者:
曾天亮 李志彭
刊名:
上海微电子技术和应用
发表期刊:
1994年1期
页码: 
27-28
摘要:
7.
评述半导体分立器件的发展
作者:
钱供章
刊名:
上海微电子技术和应用
发表期刊:
1994年1期
页码: 
29-38
摘要:
8.
我国电力电子技术发展展望
作者:
肖元真 陈志毅
刊名:
上海微电子技术和应用
发表期刊:
1994年1期
页码: 
39-43
摘要:
9.
动态RAM应用技术
作者:
张天石
刊名:
上海微电子技术和应用
发表期刊:
1994年1期
页码: 
44-54
摘要:
10.
AlxGa1—xAs的MOCVD生长和特性研究
作者:
倪杰 莫金玑
刊名:
上海微电子技术和应用
发表期刊:
1994年2期
页码: 
1-4
摘要:
11.
氙离子束轰击对氮气氛中沉积钛膜的影响
作者:
杨根庆 王曦
刊名:
上海微电子技术和应用
发表期刊:
1994年2期
页码: 
5-7
摘要:
12.
Au—Cr—Al/n—CaAs肖特基接触的正向脉冲退化现象
作者:
夏世伟 施健
刊名:
上海微电子技术和应用
发表期刊:
1994年2期
页码: 
8-10
摘要:
13.
硅一金属热堆结构及性质研究
作者:
卢建国 熊斌
刊名:
上海微电子技术和应用
发表期刊:
1994年2期
页码: 
11-14
摘要:
14.
高Q微波陶瓷片式电容器研究
作者:
胡南山 胡畏
刊名:
上海微电子技术和应用
发表期刊:
1994年2期
页码: 
15-17
摘要:
15.
单片集成InGaAs PIN光电探测器阵列
作者:
施惠英 杨易
刊名:
上海微电子技术和应用
发表期刊:
1994年2期
页码: 
18-23
摘要:
16.
铁电集成与铁电薄膜的脉冲激光沉积(续)
作者:
林成鲁 郑立荣
刊名:
上海微电子技术和应用
发表期刊:
1994年2期
页码: 
24-36
摘要:
17.
NOV—RAM X20C16
作者:
郝鸿安
刊名:
上海微电子技术和应用
发表期刊:
1994年2期
页码: 
37-41
摘要:
18.
使用进口PC—E500机应持谨慎态度
作者:
曹来发
刊名:
上海微电子技术和应用
发表期刊:
1994年2期
页码: 
42
摘要:
19.
日立V09玻封快速恢复二级管剖析与试验及评价
作者:
张丽珍 许澄嘉
刊名:
上海微电子技术和应用
发表期刊:
1994年2期
页码: 
43-47
摘要:
20.
利用《手册》预测晶体管贮存失效率
作者:
翁寿松
刊名:
上海微电子技术和应用
发表期刊:
1994年2期
页码: 
48-53
摘要:
21.
高压功率晶体管的横向结构设计
作者:
孔德平 张本袁
刊名:
上海微电子技术和应用
发表期刊:
1994年3期
页码: 
1-3
摘要:
22.
胶膜对pin光电探测器光谱的影响
作者:
杨易 王超超
刊名:
上海微电子技术和应用
发表期刊:
1994年3期
页码: 
4-7
摘要:
23.
CVD硅源气体的杂的杂质及其对薄膜和器件性能的影响
作者:
曾天亮
刊名:
上海微电子技术和应用
发表期刊:
1994年3期
页码: 
8-15
摘要:
24.
PIII的半导体应用
作者:
刘学勤 李琼
刊名:
上海微电子技术和应用
发表期刊:
1994年3期
页码: 
16-22
摘要:
25.
可控硅触发电路
作者:
张玉莲 谈国华
刊名:
上海微电子技术和应用
发表期刊:
1994年3期
页码: 
23-28
摘要:
26.
掺HF气体氧化及F离子注入Si后氧化的SiO2特性
作者:
何德湛 龙伟
刊名:
上海微电子技术和应用
发表期刊:
1994年3期
页码: 
29-30
摘要:
27.
集成电路的钝化保护膜
作者:
张敏 程天敏
刊名:
上海微电子技术和应用
发表期刊:
1994年3期
页码: 
31-34
摘要:
28.
热壁MOCVD法生长Hg1—xGdxTe材料
作者:
丁永庆 毕戈雄
刊名:
上海微电子技术和应用
发表期刊:
1994年3期
页码: 
35-38
摘要:
29.
光电激光硅靶的研制
作者:
胡希杰 龚全宝
刊名:
上海微电子技术和应用
发表期刊:
1994年3期
页码: 
39-42
摘要:
30.
集成电路的发展设想
作者:
刊名:
上海微电子技术和应用
发表期刊:
1994年3期
页码: 
43-52
摘要:
共
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上海微电子技术和应用基本信息
刊名
上海微电子技术和应用
主编
曾用名
上海半导体
主办单位
主管单位
出版周期
季刊
语种
ISSN
1006-9453
CN
31-1239/TN
邮编
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