薄膜科学与技术1995年第2期出版文献-钛学术文献服务平台

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薄膜科学与技术

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主办单位：

南京电子器件研究所

ISSN：

CN：

出版周期：

双月刊

邮编：

210016

地址：

南京1601信箱43分箱

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1. 热灯丝辅助射频等离子体CVD法生长立方氮化硼薄膜的研究

作者：廖克俊王宏

刊名：薄膜科学与技术

发表期刊： 1995年2期

页码: 91-96

摘要：
2. 在真空蒸发淀积a—Si及其化合物薄膜中离子轰击的作用

作者： Brod.,DE 张仕国

刊名：薄膜科学与技术

发表期刊： 1995年2期

页码: 97-103

摘要：
3. 射频磁控溅射CoCr／Ti薄膜的结构,磁性研究

作者：阎明朗陈子瑜

刊名：薄膜科学与技术

发表期刊： 1995年2期

页码: 104-109

摘要：
4. PZT铁电薄膜与衬底的界面反应的研究

作者：朱永法阎培渝

刊名：薄膜科学与技术

发表期刊： 1995年2期

页码: 110-114

摘要：
5. 阳极真空弧沉积技术研究

作者：宋世战王瑞光

刊名：薄膜科学与技术

发表期刊： 1995年2期

页码: 115-119

摘要：
6. 电化学沉积—热解烧制氧化物薄膜

作者：朱日彰路新瀛

刊名：薄膜科学与技术

发表期刊： 1995年2期

页码: 120-127

摘要：
7. 离子束辅助淀积钴硅化合物薄膜的结构研究

作者：叶小燕陶琨

刊名：薄膜科学与技术

发表期刊： 1995年2期

页码: 128-134

摘要：
8. 类金刚石薄膜的制备及其力学性能

作者：张贵锋郑修麟

刊名：薄膜科学与技术

发表期刊： 1995年2期

页码: 135-140

摘要：
9. 用热丝法生长大面积高质量金刚石膜

作者：庞国锋石岩

刊名：薄膜科学与技术

发表期刊： 1995年2期

页码: 141-146

摘要：
10. ICB技术生长GaAs／Si的某些特性

作者：余怀之冯德伸

刊名：薄膜科学与技术

发表期刊： 1995年2期

页码: 147-152

摘要：
11. 高频溅射ZnO：Al透明导电薄膜的研究

作者：张志林赵伟明

刊名：薄膜科学与技术

发表期刊： 1995年2期

页码: 153-157

摘要：
12. 铁基材料上动态离子束混合Ta膜的微观分析

作者：汪德志黄宁康

刊名：薄膜科学与技术

发表期刊： 1995年2期

页码: 158-162

摘要：
13. 离子束刻蚀PZT薄膜图形

作者：徐梅娣郭懋端

刊名：薄膜科学与技术

发表期刊： 1995年2期

页码: 163-166

摘要：

薄膜科学与技术基本信息

刊名	薄膜科学与技术	主编
曾用名
主办单位	南京电子器件研究所	主管单位
出版周期	双月刊	语种
ISSN		CN
邮编	210016	电子邮箱
电话		网址
地址	南京1601信箱43分箱

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