微纳电子技术期刊
出版文献量(篇)
3266
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16974

微纳电子技术

Micronanoelectronic Technology
曾用名: 半导体情报(1964-2001)

AJSACSTPCD

影响因子 0.4364
《微电子技术》以促进我国纳米电子技术不断发展为办刊目的。 创刊4年以来,汇集了纳米电子、机械、材料、制造、测量以及物理、化学和生物等不同学科新生长出来的微小和微观领域的科学技术群体,通过报道国内外纳米电子技术方面的研究论文和综述动态,为纳米研究领域的技术人员提供纳米技术领域新的突破方法和新的研究方向,为纳米技术领域中从事原始创新和基础探索的科研工作者、大学教师和学生提供了一个纳米电子技术成... 更多
主办单位:
中国电子科技集团公司第十三研究所
期刊荣誉:
俄罗斯《AJ》收录  美国《剑桥科学文摘》收录  英国《SA》,INSPEC数据库收录 
ISSN:
1671-4776
CN:
13-1314/TN
出版周期:
月刊
邮编:
050002
地址:
石家庄市179信箱46分箱
出版文献量(篇)
3266
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16974
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  • 作者: 孙云飞 孙建东 班建民 田学农 秦华 罗恒 胡伏原 陶重犇
    刊名: 微纳电子技术
    发表期刊: 2017年11期
    页码:  729-733
    摘要: 提出了一种基于硅透镜集成的高灵敏度GaN/AlGaN高电子迁移率晶体管(HEMT)的太赫兹模组探测器.在太赫兹波辐照下,超半球硅透镜可以有效提高太赫兹波收集效率和消除被测器件的衬底干涉效应,...
  • 作者: 孙世闯 张宝顺 李淑萍
    刊名: 微纳电子技术
    发表期刊: 2017年11期
    页码:  734-739
    摘要: 通过金属有机化学气相沉积(MOCVD)法,在氢化物气相外延(HVPE)自支撑GaN衬底和蓝宝石(0001)衬底上外延生长AlGaN/AlN/GaN结构的高电子迁移率晶体管(HEMT)材料,采...
  • 作者: 聂奎营 胡总华
    刊名: 微纳电子技术
    发表期刊: 2017年11期
    页码:  740-744
    摘要: 为了得到ZnSe∶O/ZnO核壳结构纳米线中间带太阳电池的最优吸收效率,通过时域有限差分法对纳米线的直径进行了优化,使纳米线的吸收光谱与太阳光谱相重合的波段有较高的吸收效率,并且使ZnSe∶...
  • 作者: 李梅 粟雅娟 贾昆鹏 闫祥宇 韦亚一 马源骏
    刊名: 微纳电子技术
    发表期刊: 2017年11期
    页码:  745-751
    摘要: 石墨烯/金属接触是石墨烯应用在集成电路领域的一个重要问题,按照其接触方式的不同,介绍了近年来关于石墨烯/金属接触的研究,主要分析了面接触与边缘接触的接触机理以及不同接触方式的器件结构,比较了...
  • 作者: 丁桂甫 付学成 刘骏尘 史丽云 张亚非 段力 翁昊天 胡铭楷
    刊名: 微纳电子技术
    发表期刊: 2017年11期
    页码:  752-759
    摘要: 设计并制作了多种声表面波(SAW)器件,并研究了设计参数与工艺参数对器件特性的影响.首先在同一块掩膜板内设计了多组不同尺寸与间距参数的SAW器件,然后用微电子机械系统(MEMS)微加工工艺在...
  • 作者: 张斌珍 段俊萍 王雄师 白琼 黄成远
    刊名: 微纳电子技术
    发表期刊: 2017年11期
    页码:  760-765
    摘要: 设计了一款小型超宽带(UWB)共面波导(CPW)馈电的八边形缝隙柔性天线,可应用于超宽带无线通信系统.该天线采用了新兴柔性材料聚二甲基硅氧烷(PDMS)作为介质基板,并在PDMS介质基板的一...
  • 作者: 丑修建 何剑 侯晓娟 张文栋 朱杰
    刊名: 微纳电子技术
    发表期刊: 2017年11期
    页码:  766-771,780
    摘要: 介绍了一种基于摩擦和压电复合机制的接触-分离式纳米发电机的制备方法,利用倒模工艺形成带有铜网微结构的硅胶膜,与铝电极形成顶端摩擦层结构;利用聚偏氟乙烯(PVDF)膜和铝电极形成底端压电层结构...
  • 作者: 林丙涛 梅松 江黎 汪红兵 蒋春桥
    刊名: 微纳电子技术
    发表期刊: 2017年11期
    页码:  772-780
    摘要: 首先介绍了微半球谐振陀螺(μHRG)基于驻波进动效应进行角度或角速度检测的工作原理.依据谐振子制作工艺的区别,将微半球谐振陀螺分为微玻璃吹制型、牺牲层型、精加工型三种,并对上述三种类型微半球...
  • 作者: 刘宜霖 檀柏梅 胡新星 路一泽 高宝红
    刊名: 微纳电子技术
    发表期刊: 2017年11期
    页码:  781-786
    摘要: 铜布线化学机械抛光(CMP)后清洗的主要对象是CMP工艺后在铜表面的残留物,包括硅溶胶颗粒、金属离子与有机物残留.采用PVA刷洗的清洗方式对CMP后表面残留的硅溶胶颗粒与表面吸附的苯并三氮唑...
  • 作者: 曹威武 李婷婷 潘开林 王文佳 韩旭峰
    刊名: 微纳电子技术
    发表期刊: 2017年11期
    页码:  787-790
    摘要: 以银导电墨水为打印墨水材料,以热塑性聚氨酯弹性体橡胶(TPU)薄膜为柔性基底材料,通过压电式材料喷墨打印机在柔性基底上打印导电膜图形.通过光学显微镜对基底材料表面打印银墨水状态观察发现:基底...
  • 作者: 刘宜霖 刘玉岭 杨柳 檀柏梅 高宝红
    刊名: 微纳电子技术
    发表期刊: 2017年11期
    页码:  791-796
    摘要: 以螯合剂与活性剂为材料,利用难溶物质微弱电离平衡、螯合剂络合机理以及活性剂的铺展、润湿以及渗透作用,结合有机物结构相似相溶原理,研制新型碱性清洗液,用于有效去除Cu-CMP后的苯并三氮唑(B...
  • 作者: 刘卫丹 徐世海 朱磊 李晖 边子夫 陈阳 高飞
    刊名: 微纳电子技术
    发表期刊: 2017年11期
    页码:  797-800
    摘要: 主要研究了GaSb单晶片的化学机械抛光(CMP).使用硅溶胶作为抛光液对切割、机械抛光后的GaSb单晶片进行了CMP实验.在实验中,通过调节抛光液配比、pH值等工艺参数,研究不同氧化剂的掺入...

微纳电子技术基本信息

刊名 微纳电子技术 主编 李和委
曾用名 半导体情报(1964-2001)
主办单位 中国电子科技集团公司第十三研究所  主管单位 中华人民共工业和信息化部
出版周期 月刊 语种
chi
ISSN 1671-4776 CN 13-1314/TN
邮编 050002 电子邮箱 wndz@vip.sina.com
电话 0311-87091487 网址 www.wndz.org
地址 石家庄市179信箱46分箱

微纳电子技术评价信息

期刊荣誉
1. 俄罗斯《AJ》收录
2. 美国《剑桥科学文摘》收录
3. 英国《SA》,INSPEC数据库收录

微纳电子技术统计分析

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