微细加工技术期刊
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微细加工技术

Microfabrication Technology
《微细加工技术》创刊于1983年,是国家科委和国家新闻出版署批准,国内外公开发行的中央级重要科技期刊。是国家一级检索刊物,已连续9年被美国工程信息公司Ei数据库收录,是《中国期刊网》、《中国学术期刊(光盘版)》、《中国学术期刊综合评价数据库》全文收录用刊,是《中国科学引文数据库》来源期刊。
主办单位:
中国电子科技集团公司第48研究所
期刊荣誉:
国家一级检索刊物用刊  美国工程信息公司Ei数据库收录 
ISSN:
1003-8213
CN:
43-1140/TN
出版周期:
双月刊
邮编:
地址:
湖南省长沙市
出版文献量(篇)
672
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  • 作者: 戴旭涵 李文军 蔡炳初 赵小林
    刊名: 微细加工技术
    发表期刊: 2001年3期
    页码:  1-8
    摘要: 微光机电系统(MOEMS)是在微机电系统(MEMS)基础上发展起来的一种新技术系统,它是由微光学、微电子和微机械相结合而产生的一种新型的微光学结构系统,MOEMS在信息、军事、航天、医学、工...
  • 作者: 刘理天 李志坚 王晓红 谭智敏
    刊名: 微细加工技术
    发表期刊: 2001年3期
    页码:  9-13
    摘要: 提出一种与标准IC工艺兼容的MEMS单片集成新方法-后微机械技术,研究了与之相关的关键技术,PECVD淀积SiC保护电路技术及多孔硅牲层技术,并进行了多孔硅牺牲层技术的实验研究,取得了满意的...
  • 作者: Chu Jiaru 周洪军 尉伟 徐向东 洪义麟 绍军 裴元吉 陶晓明 霍同林
    刊名: 微细加工技术
    发表期刊: 2001年3期
    页码:  14-17
    摘要: 研究了干法反应刻蚀和湿法强碱化学腐蚀方法对场致发射阵列项部的锐化问题以及不同工作气体的干法反应刻蚀和湿法化学腐蚀对场致发射阵列Si尖项部的SiO2绝缘层的去除方法,并对这两种方法进行了比较,...
  • 作者: 徐东 王莉 程秀兰 蔡炳初 陈鉴
    刊名: 微细加工技术
    发表期刊: 2001年3期
    页码:  18-21,73
    摘要: 图形化SMA薄膜的图案及其结构参数的选择对SMA/Si复合驱动膜的性能有决定性的影响,利用有限元方法对两种图案设计进行了对比分析.通过结构分析和温度场分析,圆形电阻条变宽的设计有助于进一步提...
  • 作者: 傅绍军 周洪军 徐向东 洪义麟 田扬超 陶晓明 霍同林
    刊名: 微细加工技术
    发表期刊: 2001年3期
    页码:  22-25
    摘要: 在简述软X射线自支撑透射光栅制作工艺的基础上,重点研究支撑结构制作中的紫外光刻和电镀两步工艺.紫外光刻中的菲涅耳衍射会造成光刻胶不能显影到底或起保护作用的光刻胶面积减小、厚度减薄;比较了两个...
  • 作者: 于宏宇 刘珩 罗淑云 葛常锋
    刊名: 微细加工技术
    发表期刊: 2001年3期
    页码:  26-30
    摘要: 使用墙式结构作为FED器件内的支撑,使用Algor专用力学有限元软件对器件各种结构的力学特性进行了数值计算,同时参照器件的电学特性后确定了支撑墙的分布密度、安装位置和装配误差等工艺参数,并完...
  • 作者: 刘岩 谭久彬 金鹏
    刊名: 微细加工技术
    发表期刊: 2001年3期
    页码:  31-34
    摘要: PDMS(Polydimethylsiloxane,聚二甲基硅氧烷)微小流路的微加工技术,由于具有加工周期短,加工成本低,可进行批量生产,易获得高深宽比的微小结构等特点,日益成为微小流路加工...
  • 作者: 李金华 林成鲁
    刊名: 微细加工技术
    发表期刊: 2001年3期
    页码:  35-40
    摘要: 对国内外几种SIMOX硅薄膜样品进行位错密度测量,再用紫外光致荧光法(UVF)对其在集成电路工艺流片前后的Fe、Cu、Ni、Mo等重离子沾污作对比测定,结合SIMOX/MOS管的漏电特性,作...
  • 作者: 吴瑜光 张通和
    刊名: 微细加工技术
    发表期刊: 2001年3期
    页码:  41-45,50
    摘要: Mo+C双注入H13钢可明显地改善钢表面的抗腐蚀特性,然而改性机理却很少报道.我们对Mo+C双注入纯铁微观结构变化进行了分析,用透射电子显微镜首次发现三元FeMo2C相,这种相在较低的束流密...
  • 作者: 张通和 杨建华
    刊名: 微细加工技术
    发表期刊: 2001年3期
    页码:  46-50
    摘要: 采用由金属蒸汽真空弧(MEVVA)离子源引出的强束流脉冲金属钨离子对4Cr5MoV1Si(H13)钢进行了离子注入表面改性研究.用针盘式磨损机测得样品的耐磨性提高两倍左右.使用卢瑟福背散射谱...
  • 作者: 冯伯儒 姚汉民 李展 陈元培 陈献忠
    刊名: 微细加工技术
    发表期刊: 2001年3期
    页码:  51-55
    摘要: 分析了镜面的反射系数与光驻波场的关系,详细讨论了影响双反射面形成的驻波场的各种因素,并对TE波和TM波驻波场的光强分布进行了模拟和比较,最后得到了一些对实验有指导意义的结论.
  • 作者: 杨澍 杨维全 胡松 赵立新 郭春玲 陈伟明 魏相惠
    刊名: 微细加工技术
    发表期刊: 2001年3期
    页码:  56-59
    摘要: 提出一种新的适合对准标记图像处理的改进亚象素细分定位算法,并提供了完善这种定位算法的缩小检测窗口的方法.
  • 作者: 任黎明 陈宝钦
    刊名: 微细加工技术
    发表期刊: 2001年3期
    页码:  60-63
    摘要: 经过严格论证,提出一种计算简便,易于软件实现的电子束束斑直径定义方法,在此基础上运用Monte Carlo方法对高斯分布电子束斑进行模拟,给出模拟电子数分别为5000、20000、50000...
  • 作者: 习复 伊福廷 彭良强 陈传福 陈永明
    刊名: 微细加工技术
    发表期刊: 2001年3期
    页码:  64-67
    摘要: 设计合成了具有头-头结构的甲基丙烯酸甲酯共聚物以及含大空间侧基的甲基丙烯酸甲酯共聚物,研究了它们作为LIGA技术用抗蚀剂的光敏性能,结果表明适当大小空间侧基的引入,有助于改善甲基丙烯酸甲酯型...
  • 作者: 丁建春 任家烈 单际国 吴爱萍 张迪
    刊名: 微细加工技术
    发表期刊: 2001年3期
    页码:  68-73
    摘要: 研究了采用聚焦光束熔覆方法在结构材料表面获得精密改性层的工艺及其对熔覆层质量的影响.实验结果表明,采用合理的熔覆工艺可在结构材料表面获得高性能的大面积、大厚度表面强化层,为聚焦光束熔覆技术在...
  • 作者: 丁桂甫 俞爱斌 姚翔 沈天慧 赵小林
    刊名: 微细加工技术
    发表期刊: 2001年3期
    页码:  74-80
    摘要: 金刚石薄膜反应离子刻蚀(RIE)必须选用硬掩模,基于掩模刻蚀选择比和掩模图形化加工特性考虑,镍和镍钛合金掩模是较好选择,其中,NiTi合金薄膜具有刻蚀选择比高、加工工艺简单、图形化效果好的优...

微细加工技术基本信息

刊名 微细加工技术 主编
曾用名
主办单位 中国电子科技集团公司第48研究所  主管单位
出版周期 双月刊 语种
chi
ISSN 1003-8213 CN 43-1140/TN
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