电子束曝光高斯分布束斑的Monte Carlo模拟

• 作者: 任黎明 陈宝钦
• 来源期刊: 微细加工技术
• 学科: 工学
• 关键词: 电子束曝光 Monte Carlo方法 电子束束斑 高斯分布
• 年，卷（期）: 2001,（3）
• 所属期刊栏目: 电子束技术
• 页码范围: 60-63
• 页数: 4页
• 分类号: TN305@7
• 字数: 2921字
• 语种: 中文

摘要

经过严格论证,提出一种计算简便,易于软件实现的电子束束斑直径定义方法,在此基础上运用Monte Carlo方法对高斯分布电子束斑进行模拟,给出模拟电子数分别为5000、20000、50000、100000时的模拟结果.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陈宝钦		50	361	11.0	16.0
2	任黎明		5	63	4.0	5.0