真空科学与技术学报期刊
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真空科学与技术学报

Chinese Journal of Vacuum Science and Technology
曾用名: 真空科学与技术

CACSCDJSTCSTPCD

影响因子 0.3586
本刊是全国中文核心期刊,长期被EI、CA、SA等国际蓍名检索系统收录,已全文上网。本刊通过中国图书贸易总公司代理向国外发行。目前在美国、英国、德国、荷兰及我国的香港与台湾地区均有订阅,有一定的影响力。在国内各高等院校科学院所涉及到真空科学与技术论文都大多数向本刊投稿,已成为国内外关学者发表高水平科研成果的主要载体。
主办单位:
中国真空学会
ISSN:
1672-7126
CN:
11-5177/TB
出版周期:
月刊
邮编:
100022
地址:
北京市朝阳区建国路93号万达广场9号楼614室
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  • 作者: 唐景昌 汪雷 王学森 胡艳芳
    发表期刊: 2001年2期
    页码:  83-86
    摘要: 利用STM和LEED分析了Ge在Si3N4/Si(111)和Si3N4/Si(100)表面生长过程的结构演变。在生长早期,Ge在两种衬底表面上都形成高密度的三维纳米团簇,这些团簇的大小均在几...
  • 作者: 严学俭 华中一 叶钢锋 张群 潘钢 章壮健
    发表期刊: 2001年2期
    页码:  83-86,98
    摘要: 以物理气相沉积方法将TCNQ和Ag制备的金属有机络合物薄膜,在一定的工艺条件下可做到构成薄膜的晶粒直径为40 nm左右,粗糙度也为纳米量级。同时在大气及室温条件下,在STM电场的作用下薄膜可...
  • 作者: 张世伟 杨乃恒
    发表期刊: 2001年2期
    页码:  87-90
    摘要: 采用气相合成法制备纳米微粉时,由反应合成区生成的纳米微粒在随气流流向收集装置的过程中,因相互碰撞、粘附而发生团聚现象,形成较大的颗粒。本文论述了团聚现象发生的原因,借用气体分子动力学理论,计...
  • 作者: 孙鉴 罗亦麟 胡文波
    发表期刊: 2001年2期
    页码:  95-98
    摘要: 由氖(Ne)氙(Xe)气体混合组成的放电气体使彩色交流等离子体显示板(AC-PDP)具有着火电压低,亮度、光效高的优点,但激发态氖原子发出的橙红色可见光对荧光粉发光的色纯影响很大。通过对充入...
  • 作者: Paul K.Chu 田修波
    发表期刊: 2001年2期
    页码:  99-104
    摘要: 对于等离子体浸没离子注入(PIII)技术,球形靶鞘层尺度预测对真空室设计、批量处理研究等是十分有用的。但由于球形靶鞘层Child-Langmuir定律数学表达的非线性使得工程应用较为困难。本...
  • 作者:
    发表期刊: 2001年2期
    页码:  104
    摘要:
  • 作者: 单德悦 尹涵春 张晓兵
    发表期刊: 2001年2期
    页码:  105-108,149
    摘要: 对偏转磁芯所采用的铁氧体材料的磁滞损耗特性进行了分析,得出了磁滞损耗功率与频率、磁通密度和温度的经验公式。对磁滞回线中涡流的影响进行了分析,得出在目前应用的偏转频率下,磁芯损耗中磁滞损耗占主...
  • 作者: 尹涵春 张晓兵
    发表期刊: 2001年2期
    页码:  109-111
    摘要: 通过空间磁场和感应电压的测量,对偏转磁芯中的磁通密度分布进行了计算,并根据磁滞损耗的经验公式对Philips 17英寸CMT的磁滞损耗进行了估测。该方法适用于降低能量损耗的偏转系统磁芯结构的...
  • 作者: 吴冠原 裴元吉
    发表期刊: 2001年2期
    页码:  112-115,142
    摘要: 在储存环中束流寿命与残气压强息息相关,而储存环真空系统的特殊结构又影响压强计算、测量的精确性,因此储存环压强的准确读取一直为人们所关注。本文主要介绍合肥光源(HLS)储存环真空系统压强分布的...
  • 作者: 万树德 俞昌旋 周立永 潘阁生 王之江 王成 闻一之
    发表期刊: 2001年2期
    页码:  116-119
    摘要: 为测量气体放电磁化等离子体离子参数,建立了一套静电离子探针诊断系统,进行了从近芯部到边缘区的离子温度分布的测量,结果与常规朗缪尔探针对电子参数的测量结果吻合。
  • 作者:
    发表期刊: 2001年2期
    页码:  119
    摘要:
  • 作者: 岳瑞峰 王燕
    发表期刊: 2001年2期
    页码:  120-124
    摘要: 采用Raman和荧光测量研究了低碳含量a-Si1-xCx∶H(x≤20%(原子比))薄膜的结构特征,并选用两种不同波长的激光来激发这些材料。采用647.1 nm光激发时,由于激发光能量接近于...
  • 作者: 徐发强 徐彭寿 李伟刚 潘海斌 祝传刚 郭红志 陆尔东
    发表期刊: 2001年2期
    页码:  125-128
    摘要: 利用同步辐射光电子能谱技术详细研究了Fe/GaAs(100)的界面反应和电子结构。在界面处,Fe与As形成稳定的化学键,而Ga则溶解到Fe薄膜中形成合金,但反应只能在界面处发生,形成窄的反应...
  • 作者: 朱怡峥 查良镇 桂东
    发表期刊: 2001年2期
    页码:  129-136,165
    摘要: 简要回顾了二次离子质谱学的形成和发展,从原始概念出发概括分析了学科的特点,据此评述了其领域的拓宽和现状。结合近5年来国内外的最新进展,以微电子学和光电子学为重点,兼顾生物和医学、地质和天体学...
  • 作者: 唐璜 守谷哲郎 平贺隆 范智勇 莫晓亮 蔡亲佳 陈国荣 顾海华
    发表期刊: 2001年2期
    页码:  137-139
    摘要: 提出了一种用真空蒸发和真空热压相结合的技术来制备优质有机光学薄膜的方法。用它制成的有机光学薄膜中没有任何残留有机溶剂,在放置过程中也不产生晶化,因而不会对光发生散射。在光通讯器件、有机发光、...
  • 作者: 张雄 李晓华 杨晓伟 郑姚生 陈福朝
    发表期刊: 2001年2期
    页码:  140-142
    摘要: 介绍了一种精密光点测试系统。它采用脉冲方法刷新光点,并且刷新频率和电源频率保持同步,从而避免了扫描及视频方法引起的测量误差,同时避免了散逸电磁场的影响;并克服了采用扫描光栅、通过信号发生器或...
  • 作者: 孙林 李德杰 王磊
    发表期刊: 2001年2期
    页码:  143-146
    摘要: 讨论了平面型场致热化电子发射阴极,对玻璃衬底/Mo/Ta2O5/ZnS/Au结构的平面型场致热化电子发射阴极的制备及其发射性能进行了论述,讨论了在不同工艺参数下器件的发射情况。实验表明,通过...
  • 作者: 侯雪颖 刘凤琴 钱海杰 陶冶 陶小平
    发表期刊: 2001年2期
    页码:  147-149
    摘要: 光学元件受到污染后其光学性能会变差,如何对其进行清洗,尽可能地恢复其原来的性能,使其能够重新使用显得很重要。本文介绍一种碳污染的原位清洗方法——射频弧光放电法,利用原子氧与光学元件表面所沉积...
  • 作者: 屈乾华 李良玉 王欲知 董小刚
    发表期刊: 2001年2期
    页码:  150-153,172
    摘要: 介绍了在封离轴向放电型CO2激光器正柱区管内壁上直接镀制金膜,作为促使器件工作时分解的CO2分子再生复合的催化剂及有关的问题。
  • 作者: 冉崇斌 张怀武 钟智勇
    发表期刊: 2001年2期
    页码:  154-157
    摘要: 用直流磁控溅射和快速真空磁场退火工艺在玻璃基片上制备了[NiFe/Ag]n不连续多层膜。从理论上分析了不连续膜低响应、高磁电阻值的机制,不连续膜模型介于多层膜模型及颗粒膜模型之间。研究了工艺...
  • 作者: 张通和 李唯超 李永良 王广甫 陈栾 马芙蓉 马辉
    发表期刊: 2001年2期
    页码:  158-161
    摘要: 通过磁过滤真空弧等离子体沉积技术,在单晶Si和H13钢衬底上生长一层Ti沉积膜。利用扫描电镜、X射线衍射仪和X射线光电子能谱仪对膜层进行了测量和分析。结果表明,加上磁过滤器的沉积膜表面平整光...
  • 作者: 梁荣庆 舒兴胜 邬钦崇
    发表期刊: 2001年2期
    页码:  162-165
    摘要: 在水冷反应室式MWPCVD装置中以CH4和H2为反应气体进行了金刚石膜的沉积实验,研究了反应气体的压强对金刚石膜中非金刚石碳相含量的影响。实验发现,当微波输入功率较小时,随着反应气压的上升,...
  • 作者: 范智勇 莫晓亮 陈国荣 陈殿勇
    发表期刊: 2001年2期
    页码:  166-169
    摘要: 阐述了用声阻抗法实时监测薄膜沉积的原理,介绍了一种使用个人计算机的实时测控系统。它可在真空镀膜的过程中对膜厚进行实时测量和控制,允许使用多个石英晶体探头,以适应多源共蒸发真空镀膜的需要。监测...
  • 作者: 孟兆坤 曲风钦 苗晔 黄士勇
    发表期刊: 2001年2期
    页码:  170-172
    摘要: 提出一种新型结构与材料的全固态电致变色器件,及其氢化技术和制作工艺。在实验室中研制出2 cm×2 cm可重复转换、性能优良的电致变色器件,为大面积电致变色器件连续自动生产线的研制作了必要的技...

真空科学与技术学报基本信息

刊名 真空科学与技术学报 主编 吴锦雷
曾用名 真空科学与技术
主办单位 中国真空学会  主管单位 中国科学技术协会
出版周期 月刊 语种
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ISSN 1672-7126 CN 11-5177/TB
邮编 100022 电子邮箱 vst@chinesevacuum.com
电话 010-58206280 网址
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真空科学与技术学报统计分析

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