不连续［NiFe/Ag］n多层薄膜低场巨磁阻研究

• 作者: 冉崇斌 张怀武 钟智勇
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 工学
• 关键词: 不连续多层膜 磁控溅射 退火
• 年，卷（期）: 2001,（2）
• 所属期刊栏目: 技术交流
• 页码范围: 154-157
• 页数: 4页
• 分类号: TB43
• 字数: 2729字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-7126.2001.02.018

摘要

用直流磁控溅射和快速真空磁场退火工艺在玻璃基片上制备了［NiFe/Ag］n不连续多层膜。从理论上分析了不连续膜低响应、高磁电阻值的机制，不连续膜模型介于多层膜模型及颗粒膜模型之间。研究了工艺条件，即退火温度、退火时间及空间层Ag厚度对不连续膜巨磁电阻特性的影响，并对工艺条件进行了优化，在常温下获得巨磁电阻值13%，饱和场Hs<800 A/m，磁场灵敏度1.3%／80 Am-1的优质薄膜材料。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张怀武	电子科技大学信息材料工程学院	294	2211	20.0	32.0
2	钟智勇	电子科技大学信息材料工程学院	56	359	10.0	15.0
3	冉崇斌	电子科技大学信息材料工程学院	1	3	1.0	1.0