Ni80F20复合结构多层膜的巨磁阻抗效应研究

• 作者: 宋子成 杨燮龙 袁望治 赵振杰 阮建中
• 来源期刊: 华东师范大学学报（自然科学版）
• 学科: 物理学
• 关键词: X射线衍射谱 磁滞回线 巨磁阻抗效应 Ni80Fe20复合结构多层膜
• 年，卷（期）: 2007,（1）
• 所属期刊栏目: 物理学 电子学
• 页码范围: 127-134
• 页数: 8页
• 分类号: O484
• 字数: 4128字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-5641.2007.01.020

摘要

用磁控溅射法在载玻片上制备了(Ni80Fe20/SiO2)n/Cu/(SiO2/Ni80Fe20)n复合结构多层膜,并对其巨磁阻抗效应进行了研究.研究结果表明,采用多组双层结构(n＞1)后,样品的巨磁阻抗效应明显增大;当n=3时,观测到最大的纵向巨磁阻抗(LMI)效应为10.81%,最大的横向巨磁阻抗(TMI)效应为17.08%.当n=4,5时,巨磁阻抗效应比n=3时略有减小.由XRD谱和磁滞回线等,研究了双层结构(Ni80Fe20/SiO2)循环次数n引起的样品材料晶体结构和磁性能等变化,以及对样品巨磁阻抗效应的影响.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	袁望治	华东师范大学物理系	29	139	6.0	9.0
2	阮建中	华东师范大学物理系	31	145	6.0	10.0
3	赵振杰	华东师范大学物理系	57	324	8.0	16.0
4	杨燮龙	华东师范大学物理系	43	398	10.0	18.0
5	宋子成	华东师范大学物理系	2	0	0.0	0.0