非晶FeCuNbSiB多层膜的巨磁阻抗效应

• 作者: Oumarou M 李晓东 杨燮龙 袁望治 赵振杰 阮建中
• 来源期刊: 华东师范大学学报（自然科学版）
• 学科: 物理学
• 关键词: 巨磁阻抗效应 多层膜 磁控溅射 FeCuNbSiB 绝缘层
• 年，卷（期）: 2005,（1）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 68-72,143
• 页数: 6页
• 分类号: O484
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-5641.2005.01.012

摘要

研究在250℃退火温度下非晶FeCuNbSiB薄膜的巨磁阻抗效应.X-ray谱和Mossbauer谱显示样品为非晶状态.导电层的厚度为2 μm,磁性层的厚度为1 μm.三明治结构的最大阻抗效应为20%.为了提高巨磁阻抗效应,在两磁性层之间加入了绝缘层SiO2,在250℃退火温度下最大阻抗效应为62%.随着驱动电流频率的增大,磁阻抗效应曲线由随磁场的单调下降变为出现峰的结构.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	袁望治	华东师范大学物理系	29	139	6.0	9.0
2	阮建中	华东师范大学物理系	31	145	6.0	10.0
3	赵振杰	华东师范大学物理系	57	324	8.0	16.0
4	杨燮龙	华东师范大学物理系	43	398	10.0	18.0
5	李晓东	华东师范大学物理系	8	28	3.0	5.0
6	Oumarou M	华东师范大学物理系	1	0	0.0	0.0