真空科学与技术学报期刊
出版文献量(篇)
4084
总下载数(次)
3
总被引数(次)
19905

真空科学与技术学报

Chinese Journal of Vacuum Science and Technology
曾用名: 真空科学与技术

CACSCDJSTCSTPCD

影响因子 0.3586
本刊是全国中文核心期刊,长期被EI、CA、SA等国际蓍名检索系统收录,已全文上网。本刊通过中国图书贸易总公司代理向国外发行。目前在美国、英国、德国、荷兰及我国的香港与台湾地区均有订阅,有一定的影响力。在国内各高等院校科学院所涉及到真空科学与技术论文都大多数向本刊投稿,已成为国内外关学者发表高水平科研成果的主要载体。
主办单位:
中国真空学会
ISSN:
1672-7126
CN:
11-5177/TB
出版周期:
月刊
邮编:
100022
地址:
北京市朝阳区建国路93号万达广场9号楼614室
出版文献量(篇)
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19905
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  • 作者: 卢景霄 张庆丰 郑文 郭学军 陈永生 高哲
    发表期刊: 2008年5期
    页码:  389-393
    摘要: 本文采用铝诱导表面织构方法,在浮法玻璃表面成功地制备了陷光结构:采用快速辐射加热法对蒸镀约200nm厚Al膜的浮法玻璃基片进行了一定时间的热处理,然后分别经H3PO4和HF/HNO3的混合溶...
  • 作者: 宋长安 彭应全 李训栓 杨青森 王宏 袁建挺 赵明
    发表期刊: 2008年5期
    页码:  394-398
    摘要: 一些无机半导体器件和许多有机薄膜器件都具有电双稳特性.通过对CuPc有机薄膜器件的,I-V曲线的分析,说明CuPc薄膜器件具有明显的电双稳特性.研究了膜厚对器件I-V特性的影响,结果表明Cu...
  • 作者: 何万万 凌玲 刘德龙 屠彦 杨兰兰 杨志龙
    发表期刊: 2008年5期
    页码:  399-403
    摘要: 等离子体显示单元中的阳极条纹现象,即等离子体密度沿阳极分布不均匀的现象,对于提高等离子体显示屏的显示性能具有重要影响.在许多等离子体显示单元的实验和模拟过程中,都观察到了条纹现象,但对于条纹...
  • 作者: 方志 章程 胡建杭 赵龙章
    发表期刊: 2008年5期
    页码:  404-409
    摘要: 用大气压空气中介质阻挡放电(DBD)对聚丙烯(PP)薄膜进行表面改性.通过扫描电子显微镜(SEN)观察、接触角测量和X射线光电子能谱分析(XPS)等手段,研究了DBD等离子体处理前后PP膜的...
  • 作者: 任妮 武生虎 肖更竭 赵栋才 马占吉
    发表期刊: 2008年5期
    页码:  410-414
    摘要: 对离子源进行合理设计,使离子源中的Ar离子溅射产生Fe离子,利用裹挟Fe离子的Ar离子在制备类金刚石薄膜的过程中进行间歇性注入掺杂,制备多层类金刚石薄膜.这种多层类金刚石薄膜和单层类金刚石薄...
  • 作者: 刘天伟 刘成森 李晓红 王德真
    发表期刊: 2008年5期
    页码:  415-419
    摘要: 本文利用两维流体模型研究了半圆形容器在放置共心零电位附加电极情况下,等离子体源离子注入的离子鞘层时空演化动力学过程.考察了鞘层内随时间变化的电势分布和离子密度分布,计算了容器内外表面的离子束...
  • 作者: 庞晓露 杨会生 王燕斌 高克玮
    发表期刊: 2008年5期
    页码:  420-423
    摘要: 氧化铬薄膜具有高的硬度,很好的耐磨、耐蚀性能,因而具有广泛的应用.但是到目前为止还没有看到对其微观结构研究的报道.本文通过扫描电镜、高分辨电镜及原子力显微镜研究了氧化铬薄膜及界面的微观结构....
  • 作者: 于大洋 巴德纯 张以忱 马胜歌
    发表期刊: 2008年5期
    页码:  424-428
    摘要: 采用中频非平衡磁控溅射沉积工艺,并施加霍尔离子源辅助沉积,在高速钢W18Cr4V及单晶硅基体上制备了梯度过渡的DIE/TiAlN复合薄膜.利用扫描电镜(SEM)、X射线光电子能谱仪(XPS)...
  • 作者: Zhao Xinwei 彭英才 白振华 范志东
    发表期刊: 2008年5期
    页码:  429-436
    摘要: si纳米线及其阵列是近年内新发展起来的准一维半导体光电信息材料,在场效应器件、单电子存储器件、光探测器件、场发射器件、纳米传感器件和高效率发光器件以及集成技术中具有潜在的应用.本文以气-液-...
  • 作者: 刘刚 刘桂礼 李东 赵双琦
    发表期刊: 2008年5期
    页码:  437-440
    摘要: 石英晶片镀膜是石英晶体谐振器生产中的重要工序之一,通过控制镀膜厚度使石英晶片谐振频率达到目标值.传统的镀膜采用时间控制方法,膜层厚度取决于镀源材料蒸发速率和镀膜时间,用该方法石英晶片谐振频率...
  • 作者: 史伟民 徐环 秦娟 郑耀明 魏光普
    发表期刊: 2008年5期
    页码:  441-444
    摘要: 采用改进后的带有真空活塞的热壁物理气相沉积装置在非晶硅薄膜上制备HgI2多晶薄膜,使薄膜生长的操作过程更加简单安全.用边抽真空边生长薄膜的方式,可以获得较大的生长速率.通过改变不同的沉积参数...
  • 作者: 张礼平 李剑锋 李国卿 李晓娜 王兆松 董闯
    发表期刊: 2008年5期
    页码:  445-449
    摘要: 在2024铝合金上采用了二次浸锌的预处理方法,化学镀镍,电镀铜作为过渡层的特殊工艺,再利用磁过滤脉冲偏压电弧离子镀技术制备了Zn/Ni/Cu/Cr/CrNx多层梯度膜.利用扫描电子显微镜(S...
  • 作者: 巴德纯 沈辉 王志坚 王贺权 闻立时 陈达
    发表期刊: 2008年5期
    页码:  450-453
    摘要: 应用直流反应磁控溅射设备在铜基底上制备双层TiOxNy选择性吸收薄膜.当第一层薄膜的制备参数不变时,研究了第二层薄膜中N2流量参数对双层薄膜反射率的影响.结果表明,当第二层薄膜氧氮比为1:1...
  • 作者: 乔宏霞 夏天东 朱林 杨华 闫鹏勋 魏智强
    发表期刊: 2008年5期
    页码:  454-457
    摘要: 在惰性保护气氛下,采用直流碳弧等离子体法成功制备了碳包覆铁纳米颗粒,并利用x射线衍射(XRD)、高分辨透射电子显微镜(HRTEM)、X射线能谱仪(EDS)、透射电子显微镜(TEM)和相应选区...
  • 作者: 孙斌斌 宋曙光 沈鸿烈 鲁林峰 黄海宾
    发表期刊: 2008年5期
    页码:  458-461
    摘要: 采用射频磁控溅射法和真空热蒸发沉积法在FTO衬底上制备了金属酞菁/氧化锌复合膜(M-Pc/ZnO),并对复合膜的光吸收和光电性能进行了研究.实验发现,复合膜的紫外-可见光吸收谱中,金属酞菁的...
  • 作者: 付亚波 吴侗 翁静 谢芬艳 陈强
    发表期刊: 2008年5期
    页码:  462-466
    摘要: 本文采用射频(13.56MHz)等离子体技术,以丙烯胺(allylamine)为聚合单体,氩气为辅助气体,进行了合成含胺基生物功能薄膜的研究.利用接触角测定仪(WCA),傅里叶变换红外光谱(...
  • 作者: 唐康淞 李实 赵刚 阴和俊
    发表期刊: 2008年5期
    页码:  467-470
    摘要: 本论文由杆控电子枪的设计参数出发,通过一系列的公式变换将杆控电子枪的设计转换为实心注电子枪的设计,利用综合迭代法确定电子枪的几何尺寸,同时考虑电子枪尺寸对注腰半径、导流系数等参数的影响,建立...
  • 作者: 周东方 宋家乾 张翔
    发表期刊: 2008年5期
    页码:  471-475
    摘要: 本文第一部分介绍了行波管的非线性特性,给出了Saleh提出的行波管非线性模型,用其对某行波管的实测数据拟合,拟合均方误差小,结果好.第二部分首先介绍了预失真技术的原理与基本方法,在Saleh...
  • 作者: 刘卫国 周顺 张伟 张雄星 金娜 高爱华
    发表期刊: 2008年5期
    页码:  476-480
    摘要: 本文介绍了一台新型等离子体增强液态源MOCVD系统.系统由液态源汽化装置、反应室、等离子体产生装置、真空系统及自动控制系统等主要部分组成.该系统采用了由超声雾化器和加热腔组成的液态源汽化装置...
  • 作者: 何晓雄 刘成岳 张鉴 戚昊琛
    发表期刊: 2008年5期
    页码:  481-485
    摘要: 电感耦合等离子体(ICP)刻蚀是目前集成电路与微机电系统制造的关键工艺之一.利用一种改进的复合交替深刻蚀(TMDE)模型对ICP深反应离子刻蚀(Deep-RIE)进行了工艺仿真建模.根据深反...
  • 作者: 刘正义 史新伟 李杏瑞 邱万起
    发表期刊: 2008年5期
    页码:  486-491
    摘要: 采用电弧离子镀(AIP)和磁过滤电弧离子镀(MFAIP)方法分别在不锈钢和硅片上制备了两种不同的TiN薄膜.利用扫描电镜(SEM)观察了薄膜的表面形貌及组织结构;利用X射线衍射(XRD)及透...
  • 作者:
    发表期刊: 2008年5期
    页码:  插1
    摘要:

真空科学与技术学报基本信息

刊名 真空科学与技术学报 主编 吴锦雷
曾用名 真空科学与技术
主办单位 中国真空学会  主管单位 中国科学技术协会
出版周期 月刊 语种
chi
ISSN 1672-7126 CN 11-5177/TB
邮编 100022 电子邮箱 vst@chinesevacuum.com
电话 010-58206280 网址
地址 北京市朝阳区建国路93号万达广场9号楼614室

真空科学与技术学报统计分析

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