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俄歇凹坑边缘组分分析测定多层膜结构
俄歇凹坑边缘组分分析测定多层膜结构
作者:
崔玉德
王佑祥
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
多层膜
半导体
超晶格
俄歇线分析
摘要:
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篇名
俄歇凹坑边缘组分分析测定多层膜结构
来源期刊
薄膜科学与技术
学科
工学
关键词
多层膜
半导体
超晶格
俄歇线分析
年,卷(期)
1990,(2)
所属期刊栏目
研究方向
页码范围
39-44
页数
6页
分类号
TN304.055
字数
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DOI
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研究来源
研究分支
研究去脉
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期刊影响力
薄膜科学与技术
主办单位:
南京电子器件研究所
出版周期:
双月刊
ISSN:
CN:
开本:
出版地:
南京1601信箱43分箱
邮发代号:
创刊时间:
语种:
出版文献量(篇)
327
总下载数(次)
1
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