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光学光刻和相应的抗蚀剂的进展
光学光刻和相应的抗蚀剂的进展
作者:
周文钊
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光学
光刻
抗蚀剂
摘要:
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光学光刻和相应的抗蚀剂的进展
来源期刊
化工科技动态
学科
工学
关键词
光学
光刻
抗蚀剂
年,卷(期)
1992,(9)
所属期刊栏目
研究方向
页码范围
1-3
页数
3页
分类号
TN405.98
字数
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光学
光刻
抗蚀剂
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化工科技动态
主办单位:
化工部科技情报所
出版周期:
月刊
ISSN:
CN:
11-2611/TQ
开本:
出版地:
化工部科技情报所北京和平里七区16楼
邮发代号:
创刊时间:
语种:
出版文献量(篇)
744
总下载数(次)
3
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