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蒸发与离子束溅射沉积Ni/Si膜的XRD和XPS研究
蒸发与离子束溅射沉积Ni/Si膜的XRD和XPS研究
作者:
王培禄
蒲松
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
蒸发
离子束溅射
硅化物
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摘要:
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篇名
蒸发与离子束溅射沉积Ni/Si膜的XRD和XPS研究
来源期刊
薄膜科学与技术
学科
工学
关键词
蒸发
离子束溅射
硅化物
镍膜
硅膜
年,卷(期)
1994,(2)
所属期刊栏目
研究方向
页码范围
165-170
页数
6页
分类号
TN305.92
字数
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DOI
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节点文献
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离子束溅射
硅化物
镍膜
硅膜
研究起点
研究来源
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研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
薄膜科学与技术
主办单位:
南京电子器件研究所
出版周期:
双月刊
ISSN:
CN:
开本:
出版地:
南京1601信箱43分箱
邮发代号:
创刊时间:
语种:
出版文献量(篇)
327
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1
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