离子束溅射制备Si/Ge多层膜及红外吸收性能研究

• 作者: 刘焕林 杨宇 郝瑞亭
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 物理学
• 关键词: Si/Ge多层膜 离子束溅射 红外探测材料
• 年，卷（期）: 2006,（2）
• 页码范围: 280-284
• 页数: 5页
• 分类号: O48
• 字数: 2720字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-985X.2006.02.017

摘要

采用离子束溅射方法在Si衬底上制备Si/Ge多层膜.通过改变生长温度、溅射速率等因素得到一系列Si/Ge多层膜样品.通过X射线衍射、拉曼散射、原子力显微分析(AFM)等表征方法研究薄膜结构与生长条件的关系.在小束流(10mA)、室温条件下制备出界面清晰、周期完整的Si/Ge多层膜.通过红外吸收谱的测量发现薄膜样品具有较好的红外吸收性能.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杨宇	云南大学材料科学与工程系	101	377	9.0	12.0
2	郝瑞亭	中国科学院半导体研究所	4	24	3.0	4.0
3	刘焕林	云南大学材料科学与工程系	8	88	6.0	8.0