离子束溅射制备Si/Ge多层膜的结晶研究

• 作者: 俞帆 刘焕林 杨宇 邓书康 陈亮 陈刚 高立刚
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 物理学
• 关键词: Si/Ge多层膜 离子束溅射 拉曼光谱
• 年，卷（期）: 2005,（2）
• 页码范围: 288-291
• 页数: 4页
• 分类号: O76
• 字数: 2429字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-985X.2005.02.020

摘要

采用离子束溅射制备Si/Ge多层膜,通过X射线小角衍射计算其周期厚度及各子层的厚度,用Raman光谱对Si/Ge多层膜的微观结构及Si子层的结构进行表征.结果表明,所制备的Si/Ge多层膜中,当Ge子层的厚度为6.2nm时,Si子层的结晶质量较好,表明适量的Ge含量有诱导Si结晶的作用.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杨宇	云南大学化学与材料工程学院	101	377	9.0	12.0
2	俞帆	云南大学化学与材料工程学院	19	171	8.0	12.0
3	陈亮	云南大学化学与材料工程学院	10	84	4.0	9.0
4	邓书康	云南大学化学与材料工程学院	4	22	2.0	4.0
5	陈刚	云南大学化学与材料工程学院	16	68	5.0	7.0
6	高立刚	云南大学化学与材料工程学院	5	26	3.0	5.0
7	刘焕林	云南大学化学与材料工程学院	8	88	6.0	8.0