等离子体辅助化学气相沉积的新技术

• 作者: McKe.,DR 刘建南
• 来源期刊: 国外核聚变与等离子体应用
• 学科: 工学
• 关键词: 等离子体处理 压应力 螺旋波 离子涂镀
• 年，卷（期）: 1997,（2）
• 页码范围: 65-72
• 页数: 8页
• 分类号: TG174.442

摘要

等离子体辅助化学气相沉积译沉积薄膜具有许多优点。在膜生长期间使用离 能轰击膜是生产致密结构的一种重要技术。本文讨论了在高能轰击对用等离子体沉积工艺生产的膜的应力水平及结构的影响方面研究的最近进展。诊断设备，诸如原位椭圆汁，能量选择质谱仪及残余气体分析器，能对ＰＡＣＶＤ过程仔细监测，因此可精确地控制生长面的条件。新的等离子体源，比如螺旋波等离子体源，可发射出高的离子通量。