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氧沉淀
快速热处理工艺
CMOS工艺
内容分析
关键词云
关键词热度
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文献信息
篇名 硅单晶及衬底的热处理特性
来源期刊 半导体杂志 学科 工学
关键词 硅单晶 衬底 热处理特性
年,卷(期) 1999,(3) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 13-18
页数 6页 分类号 TN304.053
字数 语种
DOI
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 BЗ.,K 1 0 0.0 0.0
2 张忆延 1 0 0.0 0.0
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1999(0)
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研究主题发展历程
节点文献
硅单晶
衬底
热处理特性
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
半导体杂志
季刊
1005-3077
12-1134/TN
16开
天津市河西区陈塘庄岩峰路
1976
chi
出版文献量(篇)
478
总下载数(次)
1
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1404
论文1v1指导