非平衡磁控溅射类金刚石薄膜的抗刻划性能及氟对结合强度的影响

• 作者: Choy Kwang-Leong 许大庆 赵建生
• 来源期刊: 机械工程学报
• 学科: 工学
• 关键词: 类金刚石 薄膜 氟化类金刚石 磁控溅射
• 年，卷（期）: 1999,（5）
• 所属期刊栏目: 工程技术应用
• 页码范围: 80-84
• 分类号: TB43|O484
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0577-6686.1999.05.019

摘要

使用非平衡磁控溅射方法沉积了类金刚石(DLC)和一定含氟浓度的氟化DLC.使用划痕方法试验了不同DLC薄膜的抗刻划性能并对其试验机理进行了研究.结果表明划痕试验过程中随着试验载荷的增加,DLC破坏形式可分为开裂、崩片、划入剥落及表层的脱落等阶段.其中抗开裂、崩片及划入性能取决于DLC本身的力学特性.膜层的脱落载荷取决于膜层与基体的结合强度.降低薄膜的摩擦系数有利于提高DLC薄膜的刻划抗力.氟元素的加入可以降低DLC层的刻划摩擦力,提高其开裂强度并增加DLC薄膜与基体材料的结合强度,从而提高DLC的抗刻划性能.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	许大庆	华中理工大学材料科学与工程系	6	106	5.0	6.0
2	赵建生	华中理工大学材料科学与工程系	5	18	2.0	4.0