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用IBAD合成的Si—DLC涂层的氮离子植入
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文献信息
| 篇名 | 用IBAD合成的Si—DLC涂层的氮离子植入 | ||
| 来源期刊 | 等离子体应用技术快报 | 学科 | 工学 |
| 关键词 | 离子束辅助沉积 氮离子植入 DLC膜 硅 | ||
| 年，卷（期） | 1999,（10） | 所属期刊栏目 | |
| 研究方向 | 页码范围 | 5-7 | |
| 页数 | 3页 | 分类号 | TG174.442 |
| 字数 | 语种 | ||
| DOI | |||
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研究主题发展历程
节点文献
离子束辅助沉积
氮离子植入
DLC膜
硅
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引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
等离子体应用技术快报
主办单位：
核工业西南物理研究院
出版周期：
月刊
ISSN：
CN：
开本：
出版地：
四川省成都市432信箱
邮发代号：
创刊时间：
语种：
出版文献量（篇）
864
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