投影光刻中相位光栅对准信号计算的新模型

• 作者: 陈敏麒
• 来源期刊: 电子学报
• 学科: 工学
• 关键词: 半导体光刻 相位光栅 多层薄膜 Fourier光学
• 年，卷（期）: 1999,（7）
• 所属期刊栏目: 学术论文与技术报告
• 页码范围: 82-85
• 页数: 4页
• 分类号: TN94
• 字数: 3869字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0372-2112.1999.07.021

摘要

对分步重复投影半导体光刻机相位光栅对准信号作了详细的分析,提出了更加合理精确的计算模型,并与其他论文中的实验数据作了初步比较,模型与实验更加接近.本文所提供的方法也适用于对有减反膜的光刻工艺对准信号的分析.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陈敏麒	中国科学院上海冶金所微电子分部	1	8	1.0	1.0