RE(La、Dy)/Si多层膜的结构研究

• 作者: 叶敦茹 徐飞 游琼玉 程国安 肖志松
• 来源期刊: 材料科学与工程
• 关键词: 多层膜 蒸发沉积
• 年，卷（期）: 2000,（z2）
• 所属期刊栏目: 薄膜材料
• 页码范围: 615-618
• 页数: 4页
• 字数: 2148字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1673-2812.2000.z2.020

摘要

利用XRD、TEM、SEM等技术,对热处理前后的La/Si和Dy/Si多层膜样品的结构进行了研究.在未退火时,La/Si多层膜中形成了非晶态LaSi合金,Dy/Si多层膜存在非晶硅和纳米结构的Dy.两类多层膜中均未有稀土硅化物形成;经过400℃热处理后,多层膜中的稀土原子和硅原子的扩散加强,两元素之间的相互作用也随之增强,La/Si多层膜开始析出LaSi2-x相,Dy/Si多层膜中开始析出DySi2-c相.随着热处理温度的升高,La/Si多层膜样品中LaSi2-x硅化物的量逐渐增加,结晶逐渐完整;Dy/Si多层膜中DySi2-x硅化物相量逐渐增加,结晶逐渐完整.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	程国安	南昌大学材料科学工程系	17	202	5.0	14.0
2	游琼玉	南昌大学材料科学工程系	1	0	0.0	0.0
3	徐飞	南昌大学材料科学工程系	19	97	5.0	9.0
4	肖志松	南昌大学材料科学工程系	1	0	0.0	0.0
5	叶敦茹	南昌大学材料科学工程系	1	0	0.0	0.0