电蚀抛光CVD金刚石膜的实验研究

• 作者: 匡同春 王成勇 王晓初 郭钟宁 黄志刚
• 来源期刊: 金刚石与磨料磨具工程
• 学科: 工学
• 关键词: 金刚石膜 抛光 电蚀加工
• 年，卷（期）: 2000,（6）
• 所属期刊栏目: 金刚石
• 页码范围: 6-9,12
• 页数: 6页
• 分类号: TG7
• 字数: 2761字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1006-852X.2000.06.002

摘要

本文提出了一种新的CVD金刚石膜抛光技术。采用该项技术，可以高效率的完成CVD金刚石膜的粗抛光。CVD金刚石膜表面被预先涂覆一层导电金属，然后采用电蚀方法对该表面进行加工，使金刚石膜突起的尖峰被迅速去除。加工中金刚石表面的石墨化使电蚀加工得以不断延续。通过单脉冲放电试验已经发现涂覆层的材料对金刚石膜的加工效果有很大影响。与普通金属加工相比，金刚石膜的电蚀过程有其完全不同的特征。通过试验和分析，本文还对金刚石膜的电蚀去除机理进行了初步探讨。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王晓初		44	277	9.0	15.0
2	郭钟宁		197	1090	16.0	23.0
3	王成勇		186	2516	26.0	39.0
4	匡同春		44	550	11.0	22.0
5	黄志刚		35	182	7.0	12.0