终成正果贵在坚持——对CVD金刚石膜研究工作的回顾

• 作者: 罗廷礼
• 来源期刊: 河北省科学院学报
• 关键词: 化学气相沉积 金刚石膜 体积磨耗比
• 年，卷（期）: 2008,（4）
• 页码范围: 68-72
• 页数: 5页
• 分类号: O6
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-9383.2008.04.019

摘要

100kW级直流等子体喷射化学气相沉积金刚石膜设备的研制成功,使我们成为继美国两家公司之后第三家能独立开发此种设备的单位,具有独创性和实用性.由于多年来的不断努力,我们不仅一直位于该项技术领域的前沿,而且也取得了很好的市场效果.金刚石膜制备工作因贵在坚持而终成正果.通过忆往昔,看今朝.思明日,对以往工作的简单回顾,来纪念院庆30周年.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	罗廷礼		9	10	2.0	3.0