亚半微米投影光刻物镜的研究设计

• 作者: 余国彬 姚汉民 李展 林妩媚 罗先刚 陈旭南
• 来源期刊: 微细加工技术
• 学科: 工学
• 关键词: 亚半微米光刻 投影物镜
• 年，卷（期）: 2000,（1）
• 所属期刊栏目: 光子束技术
• 页码范围: 26-30
• 页数: 5页
• 分类号: TN305.7
• 字数: 2932字
• 语种: 中文

摘要

介绍了分步重复投影光刻机亚半微米光刻物镜光学和机械结构研究设计、设计结果,以及公差控制.指出技术指标已达到:数值孔径NA=0.63、工作波长λ=365nm、倍率5x、工作分辨力R≤0.35μm,设计物镜所用透镜片数最少,无胶合件,并具有暗场同轴对准和温度气压控制补偿功能.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	姚汉民	中国科学光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室	44	355	9.0	16.0
2	陈旭南	中国科学光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室	39	212	9.0	13.0
3	李展	中国科学光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室	21	187	8.0	13.0
4	余国彬	中国科学光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室	22	129	7.0	10.0
5	罗先刚	中国科学光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室	52	315	9.0	15.0
6	林妩媚	中国科学光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室	21	154	8.0	11.0