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NiCr合金基底上离子源辅助激光制备CeO2薄膜及其结构分析
NiCr合金基底上离子源辅助激光制备CeO2薄膜及其结构分析
作者:
徐启阳
王又青
王秋良
郝梅
陈清明
黄新堂
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
脉冲激光
CeO2薄膜
NiCr合金基底
离子源辅助
摘要:
室温下在NiCr合金(Hastelloy c-275)基底上应用Ar+离子源辅助,准分子脉冲激光沉积了CeO2薄膜.结果表明:在合适的外部条件控制下,直接在NiCr合金基底上可以制备出c-轴取向的CeO2薄膜,但这时的CeO2薄膜在其a-b平面内没有观察到织构的信息;进一步在相同的条件下,首先在NiCr合金基底上制备一层YSZ(Yttria-Stabilized Zirconia),再在YSZ/ NiCr上制备CeO2薄膜,这时的CeO2薄膜不但是c-轴取向,同时在其a-b平面内织构.
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力学性能
CeO2掺杂TiO2催化剂薄膜的制备与表征
TiO2薄膜
CeO2掺杂
共溅射
内容分析
文献信息
引文网络
相关学者/机构
相关基金
期刊文献
内容分析
关键词云
关键词热度
相关文献总数
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文献信息
篇名
NiCr合金基底上离子源辅助激光制备CeO2薄膜及其结构分析
来源期刊
华中师范大学学报(自然科学版)
学科
物理学
关键词
脉冲激光
CeO2薄膜
NiCr合金基底
离子源辅助
年,卷(期)
2000,(2)
所属期刊栏目
研究方向
页码范围
157-160
页数
4页
分类号
O484.4
字数
1338字
语种
中文
DOI
10.3321/j.issn:1000-1190.2000.02.010
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
黄新堂
华中师范大学物理系
38
209
9.0
13.0
3
陈清明
华中理工大学激光技术国家重点实验室
20
56
4.0
6.0
4
王又青
华中理工大学激光技术国家重点实验室
7
25
3.0
5.0
5
郝梅
华中师范大学物理系
2
6
2.0
2.0
8
王秋良
华中理工大学激光技术国家重点实验室
3
12
2.0
3.0
9
徐启阳
华中理工大学激光技术国家重点实验室
4
6
2.0
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传播情况
被引次数趋势
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参考文献(1)
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参考文献(0)
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2016(1)
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2019(1)
引证文献(0)
二级引证文献(1)
研究主题发展历程
节点文献
脉冲激光
CeO2薄膜
NiCr合金基底
离子源辅助
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
华中师范大学学报(自然科学版)
主办单位:
华中师范大学
出版周期:
双月刊
ISSN:
1000-1190
CN:
42-1178/N
开本:
大16开
出版地:
武汉市武昌桂子山
邮发代号:
38-39
创刊时间:
1955
语种:
chi
出版文献量(篇)
3391
总下载数(次)
5
总被引数(次)
18993
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华中师范大学学报(自然科学版)2000年第3期
华中师范大学学报(自然科学版)2000年第2期
华中师范大学学报(自然科学版)2000年第1期
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