电子束和X射线双曝光制作大高宽比高分辨率的X射线波带片

• 作者: 康士秀
• 来源期刊: 光学技术
• 学科: 物理学
• 关键词: 波带片 电子束刻蚀 X射线光刻
• 年，卷（期）: 2000,（6）
• 所属期刊栏目: 工艺
• 页码范围: 524-525,528
• 页数: 3页
• 分类号: O484.4|O434.1
• 字数: 1536字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1002-1582.2000.06.004

摘要

介绍了利用电子束和X射线束双曝光技术制作大高宽比高分辨率的X射线聚焦或色散元件的新方法(波长范围为1～5nm).所制做的厚度为10μm的Au波带片具有30个波带,最外环的宽度为0.5μm.实验表明:对8keV的X射线来说,波带片的衬度大于10,分辨率为0.55μm,焦距为21.3cm.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	康士秀	中国科学技术大学天文与应用物理系	17	114	8.0	10.0