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采用离子注入工艺制造平面型LED
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摘要：
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SUPREM-Ⅲ进行集成电路离子注入的工艺模拟
离子注入
沟道效应
工艺模拟
快速退火炉离子注入退火工艺设计
快速热退火
离子注入
硅片
离子注入表面改性技术的应用与发展
离子注入
表面改性
应用
Co离子注入ITO薄膜的磁性研究
ITO薄膜
离子注入
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光机电信息
主办单位：
中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
出版周期：
月刊
ISSN：
1007-1180
CN：
22-1250/TH
开本：
大16开
出版地：
吉林省长春市
邮发代号：
12-171
创刊时间：
1958
语种：
chi
出版文献量（篇）
2287
总下载数（次）
1
总被引数（次）
7000
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