离子束增强沉积法制备Mo2N和Mo2-xTixN薄膜及其结构与性能研究

• 作者: 何浩培 刘邦治 崔岩 张家良 李国卿 牟宗信 黄宁表
• 来源期刊: 核技术
• 学科: 工学
• 关键词: 金属离子束 Mo2N 增强沉积
• 年，卷（期）: 2000,（7）
• 页码范围: 483-487
• 页数: 5页
• 分类号: TL501
• 字数: 2470字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0253-3219.2000.07.011

摘要

分别采用氮离子束增强沉积和N-Ti离子束同步增强沉积工艺制备了Mo2N和Mo2-xTixN薄膜，用XRD、TEM、划痕和阳极极化方法研究了两者的结构与性能。结果表明，N-Ti离子束同步增强沉积工艺制备的Mo2-xTixN薄膜的膜基结合力、致密性和抗腐蚀性能均优于氮离子增强沉积的Mo2N薄膜，Mo2-xTixN薄膜划痕临界载荷达3000gf，比Mo2N薄膜提高一倍。自腐蚀电位从Mo2N薄膜的32mV提高到Mo2-xTixN薄膜的166mV，自腐蚀电流相应地从0.5μA/cm2减小到0.26μA/cm2。Mo2-xTixN薄膜的结构是Mo2N的f.c.c.结构。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张家良	大连理工大学三束材料改性国家重点实验室	33	282	9.0	16.0
2	崔岩	大连理工大学三束材料改性国家重点实验室	59	332	10.0	16.0
3	李国卿	大连理工大学三束材料改性国家重点实验室	58	411	12.0	16.0
4	牟宗信	大连理工大学三束材料改性国家重点实验室	38	217	10.0	12.0
5	刘邦治	大连理工大学三束材料改性国家重点实验室	1	0	0.0	0.0
6	黄宁表		3	100	1.0	3.0
7	何浩培		1	0	0.0	0.0