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摘要:
在PECVD法制备a-Si∶H薄膜材料基础上, 以XeCl准分子激光烧结为手段, 对在玻璃衬底上制备多晶硅薄膜材料的工艺条件进行了探索, 利用XRD、 SEM、 Raman光谱等分析测试手段对所制备材料的结构特征进行了表征. 较高的衬底温度、合适的激光能量密度和脉冲频率, 有利于获得高质量的多晶硅薄膜.
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文献信息
篇名 准分子激光烧结玻璃衬底上多晶硅薄膜材料的制备
来源期刊 液晶与显示 学科 物理学
关键词 多晶硅膜 准分子激光烧结 玻璃衬底 制备
年,卷(期) 2001,(3) 所属期刊栏目 研究报告
研究方向 页码范围 170-175
页数 6页 分类号 O484.1
字数 3062字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1007-2780.2001.03.002
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液晶与显示
月刊
1007-2780
22-1259/O4
大16开
长春市东南湖大路3888号
12-203
1986
chi
出版文献量(篇)
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