氦离子轰击器壁的再释和溅射脱附效应研究

• 作者: 王志文
• 来源期刊: 广西民族学院学报(自然科学版)
• 学科: 物理学
• 关键词: 脱附 指数衰减 再释
• 年，卷（期）: 2001,（4）
• 所属期刊栏目: 物理学研究
• 页码范围: 252-255
• 页数: 4页
• 分类号: O59
• 字数: 2273字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1673-8462.2001.04.004

摘要

通过理论和四极质谱法(QMs)获得了氦辉光放电清洗时的氢释放特性和氦再释特性.氢在GDC(He)时的出气为双指数衰减规律,但壁脱附的衰减常数远大于机组和电离抽除的衰减时间常数,故主要表现为脱附衰减特性,这与实验基本相符.GDC(He)后硅化层中的氦再释出气率的规律为:氦的再释放与时间的-3/2成正比.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王志文	广西民族学院物理与电子工程系	26	69	5.0	7.0