离子能量和沉积温度对离子束沉积碳膜表面形貌的影响

• 作者: 刘志凯 姚振钰 廖梅勇 杨少延 柴春林 王占国 秦复光
• 来源期刊: 物理学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 非晶碳 表面形貌 质量分离低能离子束
• 年，卷（期）: 2001,（7）
• 页码范围: 1324-1328
• 页数: 5页
• 分类号: O47
• 字数: 2605字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-3290.2001.07.025

摘要

利用质量分离的低能离子束沉积技术,得到了非晶碳膜.所用离子能量为50-200eV,衬底温度从室温到800℃.在沉积的能量范围内,衬底为室温时薄膜为类金刚石,表面非常光滑;而600℃下薄膜主要是石墨成分,表面粗糙.沉积能量大于140eV,800℃时薄膜表面分立着高度取向的、垂直衬底表面、相互平行的开口碳管.用高分辨电子显微镜看到了石墨平面的垂直择优取向,离子的浅注入和应力是这种优先取向的主要机理.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘志凯	中国科学院半导体研究所半导体材料科学实验室	17	43	4.0	5.0
2	柴春林	中国科学院半导体研究所半导体材料科学实验室	14	46	4.0	6.0
3	廖梅勇	中国科学院半导体研究所半导体材料科学实验室	7	15	2.0	3.0
4	杨少延	中国科学院半导体研究所半导体材料科学实验室	17	35	3.0	5.0
5	姚振钰	中国科学院半导体研究所半导体材料科学实验室	2	16	2.0	2.0
6	秦复光	中国科学院半导体研究所半导体材料科学实验室	2	3	1.0	1.0