印制电路与集成电路

• 来源期刊: 电子科技文摘
• 学科: 工学
• 关键词: 专用集成电路 掩模技术 印制电路 会议录 微元件 分辨率增强技术 技术会议 光掩模 专题讨论会 片上系统
• 年，卷（期）: 2001,（3）
• 页码范围: 18-20
• 页数: 3页
• 分类号: TN

摘要

【正】 SPIE-Vol.3665 01036961999年 SPIE 会议录,卷3665:1998年第15届欧洲集成电路与微元件掩模技术会议=1999 proceedings ofSPIE,Vol.3665:15th European conference on masktechnology for integrated circuits and microcomponents’98[会,英]/SPIE-the International Society for OpticalEngineering.—1999.—180P.(PC)本会议录收录了于1998年11月16～17日在德国 Munich-Unterhaching 召开的第15届欧洲集成电路与微元件掩模技术专题讨论会上发表的24篇论文。内容涉及各种掩模技术,包括先进的掩模技术,掩模缺陷与检查,光掩模图形制作,掩模计量与测量,光学接近校正和分辨率增强技术,以及利用上述方法所获得的经验交流等。