氧分压对TiO2膜结构与光学性质的影响

• 作者: 全胜文 朱凤 王莉芳 赵坤 赵夔
• 来源期刊: 膜科学与技术
• 学科: 工学
• 关键词: 反应溅射 TiO2薄膜 氧分压 折射率 禁带宽度
• 年，卷（期）: 2002,（3）
• 所属期刊栏目: 研究报告
• 页码范围: 29-34
• 页数: 6页
• 分类号: O48|TQ028
• 字数: 4026字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1007-8924.2002.03.006

摘要

报道了用反应溅射法制备TiO2膜的实验研究.详细研究了膜的沉积、膜结构及其光学性质,随溅射氧分压的变化.随氧分压由6×10-2 Pa增加到9×10-2 Pa时,晶体结构由金红石变到锐钛矿,氧分压超过9×10-2 Pa时趋向于无定形结构.与膜结构密切相关的折射率n随氧分压的增大由2.44变到1.96,禁带宽度Eg则由大变小,然后再增大的变化(3.41→3.26→3.42).