溅射气压对TiO2薄膜结构性质的影响

• 作者: 孙舒宁 宋红莲 张秀全 王凤翔 陈志华
• 来源期刊: 山东建筑大学学报
• 学科: 物理学
• 关键词: TiO2薄膜 磁控溅射 溅射压强 沉积速率 晶粒尺寸
• 年，卷（期）: 2012,（6）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 575-578
• 页数: 4页
• 分类号: O484.1
• 字数: 2329字
• 语种: 中文

摘要

用射频磁控溅射技术在双面抛光的石英玻璃(SiO2)基底上沉积Er3+/Yb3+掺杂的TiO2薄膜,利用RBS背散射分析技术和X射线衍射技术研究溅射压强对薄膜结构性质的影响.结果表明:随着压强增加,成膜速率缓慢下降,且压强增大到一定数值之后对成膜速率的影响会逐渐减弱;随着压强增加,薄膜晶粒变大,晶粒间界变小,晶化质量提高.当溅射压强2.0Pa时,晶粒尺寸最大为64nm;适当降低溅射压强有利于提高薄膜的沉积速率,但是压强值也不能过小,否则会影响薄膜的晶粒尺寸大小,降低薄膜的结晶质量.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王凤翔	山东建筑大学理学院	16	48	4.0	5.0
2	陈志华	山东建筑大学理学院	6	13	2.0	3.0
3	宋红莲	山东建筑大学理学院	6	17	3.0	4.0
4	孙舒宁	山东建筑大学理学院	4	7	2.0	2.0
5	张秀全	山东建筑大学理学院	2	6	2.0	2.0